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酸堿類
品名 英文名 分子式 級別
SL UL VL(CMOS) EL
過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
C-400膽堿清洗劑 Choline Hydroxide C5H15NO2
氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
蝕刻液
品名 英文名 分子式 級別
SL UL VL(CMOS) EL
氟化銨腐蝕液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
氟化銨腐蝕液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
鋁蝕刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
鉬蝕刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
鉬鋁/鉬鋁鉬蝕刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
硅蝕刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
金蝕刻液 Au Etchant KI
銀蝕刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

鈦蝕刻液

Ti Etchant HF
鉻蝕刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
酸性剝離液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
氫氟酸腐蝕液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
ITO蝕刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
ITO蝕刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
ITO蝕刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
溶劑
品名 英文名 分子式 級別
SL UL VL(CMOS) EL
甲醇 Methanol CH3OH
乙醇 Ethanol C2H5OH
異丙醇 IPA CH3CHOHCH3
丙酮 Acetone (CH3)2CO
醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
甲苯 Toluene C6H5CH3
二甲苯 Xylenes C8H10
三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
環已烷 Cyclohexane C6H12
N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
丙二醇單甲醚 PGME PGME
丙二醇單甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
EL級:優于美國SEME C1標準,控制1μm顆粒,控制十多個金屬元素,單項金屬元素控制在100PPb。
VL級:介于EL與UL之間,控制0.5μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10~100PPb。
UL級:等同于美國SEME C7標準,控制0.5、0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10PPb以下。
SL級:等同于美國SEME C8標準,控制0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在1PPb以下。
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